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粉體包覆磁控鍍膜儀是通過粉體在濺射腔室內的旋轉，以達到粉體表?均勻包覆的效果。
腔室可旋轉、傾斜，能快速出料。粉體包覆是指將?種或多種粉體顆粒投?到包覆設備中，通過物理或化學?法形成?層覆蓋在顆粒表?的物質。粉體包覆的?的可以是改變顆粒表?的性質、增加顆粒的穩(wěn)定性、控制顆粒的釋放速率等。
設備特點
可旋轉高純石英反應腔，內帶石英擋板，使樣品在不停的翻滾過程中，受熱更充分、鍍膜更均勻。
配備紅外加熱模塊，可實現(xiàn)快速升溫
設備參數(shù)
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控制系統(tǒng) |
顯示模式 |
7英寸觸控屏 |
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磁控濺射 |
靶材尺寸 |
2英寸 |
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靶槍類型 |
標準磁場 |
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適合靶材 |
非磁性金屬靶材 |
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濺射類型 |
直流濺射 |
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濺射速率 |
以銅為例： |
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膜層厚度 |
≦1微米 |
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膜均勻性 |
±3% |
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樣品粒度 |
zui佳尺寸范圍： |
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樣品總量 |
≦500g |
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烘烤系統(tǒng) |
烘烤溫度 |
≦500℃任意可設置 |
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升溫速率 |
≦50℃/S任意可設置 |
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控溫精度 |
±1℃ |
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控溫模式 |
可編程，程序控溫 |
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旋轉升降 |
旋轉速度 |
0-100RPM任意可設置 |
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升降角度 |
0-60°任意可設置 |
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等離子體 |
射頻功率 |
150W(另有：300W,500W,600W,1000W,1500W多種規(guī)格可選購） |
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功能效用 |
粉體包覆前，可先對粉體進行表面刻蝕，改性，增強包覆層附著力。 |
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供氣系統(tǒng) |
氣體種類 |
可通：氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體 |
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氣體控制 |
采用質量流量控制器對氣體進行流量控制、氣體計量。 |
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真空系統(tǒng) |
前級泵 |
通常為雙極旋片泵，客戶可根據(jù)需要選購其它類型前級泵。 |
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分子泵 |
通常為國產(chǎn)分子泵，客戶可根據(jù)需要選購其它類型分子泵。 |
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真空計 |
復合真空計，量程為：10-5Pa～105Pa |
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供電電源 |
通常為AC220V/50Hz (其它規(guī)格，定貨前需特別注明) |
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