- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜。其核心特點(diǎn)包括：
鋁合金真空腔體：輕量化設(shè)計(jì)，耐腐蝕性好，適合實(shí)驗(yàn)室或小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。
單靶配置：支持單一靶材（如金屬、合金或氧化物），結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作便捷。
磁控濺射技術(shù)：利用磁場(chǎng)約束等離子體，提高濺射效率，形成均勻、致密的薄膜。
桌面設(shè)計(jì)：體積小巧，適合科研院所、高校實(shí)驗(yàn)室等空間有限的場(chǎng)所。
應(yīng)用領(lǐng)域：
該設(shè)備廣泛用于材料科學(xué)、光學(xué)、電子等領(lǐng)域，具體包括：
光學(xué)薄膜：如增透膜、反射膜、濾光片等。
電子器件：半導(dǎo)體電極、導(dǎo)電薄膜（如ITO）、傳感器涂層。
功能材料：耐磨涂層（如TiN）、防腐涂層、超硬薄膜（類金剛石）。
科研實(shí)驗(yàn)：新材料開(kāi)發(fā)、薄膜性能測(cè)試、教學(xué)演示等。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSZ200-I-DC-AL |
|
|
樣品臺(tái) |
外形尺寸 |
φ50mm |
|
旋轉(zhuǎn) |
自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn)角度傾斜2英寸 |
|
|
可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
|
|
磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 150mm |
|
腔體材料 |
鋁合金 |
|
|
開(kāi)啟方式 |
上蓋拆卸式 |
|
|
真空系統(tǒng) |
真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa |
|
抽氣接口 |
KF25 |
|
|
系統(tǒng)真空 |
1.0E-1Pa（機(jī)械泵） |
|
|
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
|
輸出功率 |
直流電源500W |
|
|
其他參數(shù) |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
|
整機(jī)功率 |
2kW |
|
|
重 量 |
30kg |
|
|
整機(jī)尺寸 |
385X450X420mm |
|
